點(diǎn)可蒸發(fā)任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面，熱

缺點(diǎn)電子槍結構復雜，造價(jià)高化合物沉積時(shí)易分解，化學(xué)比失調

3激光蒸發(fā)鍍膜

采用高能激光束對材料進(jìn)行蒸發(fā)，用以形成薄膜的方法，一般稱(chēng)為激光蒸鍍。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高蒸發(fā)速率高特別適合蒸發(fā)成分復雜的合金或化合物，膜層的化學(xué)計量比與靶材保持一致

缺點(diǎn)

    易產(chǎn)生微小顆粒飛濺，專(zhuān)業(yè)鍍鈦廠(chǎng)家報價(jià)，影響薄膜質(zhì)量

PVD加工特點(diǎn)

1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間；

3).涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí)；

4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，處理鍍鈦廠(chǎng)家報價(jià)，從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣，民權鍍鈦廠(chǎng)家報價(jià)，受到的局限性則較小。通常，金屬鍍鈦廠(chǎng)家報價(jià)，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。


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