我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(cháng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀(guān)裝飾性能。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類(lèi)廣泛5．膜層性能穩定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

清洗是通過(guò)化學(xué)或(及)物理的方法將工件上的油污、銹跡、灰塵等去除干凈，確保工件獲得較好的涂層結合力和生產(chǎn)的順利進(jìn)行。清洗是PVD涂層前必不可少的一道工序，也是PVD涂層生產(chǎn)中zui重要的工藝，清洗出了問(wèn)題，涂層生產(chǎn)不得不延遲、涂層過(guò)程可能中斷、或涂層結合力出現問(wèn)題而導致客戶(hù)投訴和賠償，尤其是在涂層設備的技術(shù)能力不高的情況下，清洗出了問(wèn)題，更容易發(fā)生上述風(fēng)險。有四個(gè)因素影響著(zhù)清洗的質(zhì)量，分別為：清洗時(shí)間、化學(xué)藥劑、機械作用以及清洗液溫度，這四個(gè)因素之間也相互影響，一個(gè)因素的減弱，可以通過(guò)增強另外三個(gè)因素的作用來(lái)彌補，反之亦然。