而它的電子的來(lái)源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來(lái)源為中空陰極放電。(4)雷射加熱：激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍源上，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。zui早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線(xiàn)準分子雷射。紫外線(xiàn)的優(yōu)點(diǎn)是每一光子的能量遠比紅外線(xiàn)高，因此準分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類(lèi)似。常被用來(lái)披覆成份復雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或濺射的過(guò)程有基本上的差異，準分子雷射脫離的是微細的顆粒，后者則是以分子形式脫離。(5)電弧加熱：陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：①蒸鍍速率快，可達每秒1.0微米；②基板不須加熱；③可鍍高溫金屬及陶瓷化合物；④鍍膜密高且附著(zhù)力佳。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類(lèi)：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

具有摩擦系數較低，耐磨損，膜層應力小好等優(yōu)點(diǎn)。用途：潤滑涂層，成型模具，鋁合金等粘結性強材料沖壓模具。⑥ZrN：ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時(shí)可有效減少切削瘤（積屑瘤）。⑦AL（L）:zui新劈裂電弧涂層，含Si納米復合涂層，極高抗熱性能，適合硬切削，納米硬度4300Hv，納米厚度1~3μm。摩擦系數0.3。zui高應用溫1200℃。加工硬度可達65HRC。用途：特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼。⑧MDT：zui新劈裂電弧涂層，納米厚度1-3μm，加工硬度可達58HRC。用途：特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。