鍍鈦工藝處理溫度可控制在150～500℃以下，因此鍍鈦工藝可用于多種材質(zhì)基體的涂層，不僅具有多姿多彩的裝飾效果，更重要的是采用PVD技術(shù)可使涂層具有優(yōu)異的理化特性，大幅度強化基體表面諸如硬度、摩擦系數等物理特性指標。離子真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)和用途：鈦金真空離子鍍鈦應用的就是PVD技術(shù)。金屬在特定環(huán)境下(壓力，溫度，電磁場(chǎng)等)與各種氣體(氣，氮氣，氧氣及氣等)產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過(guò)加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。該鍍鈦膜層細密均勻，結合力強，硬度高，具有良好的導電性和自潤滑性能，同時(shí)色澤豐富多樣，因此真空鍍鈦不僅是提高材料使用性能的有力手段，在裝飾上同樣是提升檔次，提高附加值的佳選擇。

電鍍工藝除了增加物體表面美觀(guān)度外，還可因表層基材鍍上金屬鍍層，而改變物體表面性質(zhì)或尺寸，使其能達到本身材質(zhì)無(wú)法做到的事情，例如賦予物品的防銹，防止磨損的功能，或提高導電性、潤滑性、耐熱性、耐候性及強度等。因此，電鍍就作為一種應用極為廣泛表面處理工藝，但是并不是每一種基材和鍍層都可以相互搭配，基材與鍍層的選擇也是有技巧的。每一種鍍層都具有的性質(zhì)與用途，在選擇鍍層時(shí)除需考慮鍍層的應用性質(zhì)外，還應考慮加工工藝及成本等問(wèn)題。

離子鍍膜膜層的成分來(lái)源于鍍料，或者說(shuō)來(lái)源于蒸發(fā)源和濺射靶的材料以及反應氣體。這些沉積物的物種及其比例，在沉積過(guò)程要穩定供給。離子鍍膜膜層的組織結構除了決定于沉積物料的成分外，還取決于沉積粒子的能量、粒子入射角度和基體溫度等，在沉積過(guò)程中要求保持一致。離子鍍膜膜層的厚度取決沉積物的總量，當然以膜致密度相同為前提。