真空鍍膜-基礎的真空鍍膜知識真空鍍膜是由真空鍍膜機完成的，其工作流程及原理為：基片通過(guò)鍍膜機的機械手的搬運，進(jìn)入到鍍膜機的真空腔體里，經(jīng)過(guò)高壓電離的離子在強電場(chǎng)及強磁場(chǎng)的作用下，產(chǎn)生高速運動(dòng)，轟擊靶材表面，激發(fā)出的金屬離子附著(zhù)在基片表面，形成一層反射膜?；A的真空鍍膜知識：真空：用真空泵抽掉容器中的氣體，使空間內低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài)，也就是該空間的氣體分子密度低于該地區大氣壓的氣體分子密度。

濺射鍍膜的基本原理：充(Ar)氣的真空環(huán)境中，當(Ar)原子被電離，形成離子(Ar)時(shí)，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊用鍍料制成的陰極靶，靶將濺射出來(lái)并沉積在工件表面。濺射膜中的入射離子，一般是通過(guò)輝光放電獲得的，在l0-2Pa~10Pa范圍內，因此濺射出的粒子在飛向基體時(shí)，容易與空氣中的氣體分子發(fā)生碰撞，使其運動(dòng)方向隨機，沉積的薄膜容易均勻。

Hunter工藝的步，如今所知，包括加熱氯，焦炭和金紅石的混合物，在非常高的溫度下產(chǎn)生由（TiCl和二氧化碳組成的產(chǎn)物：TiO2（固體）+2Cl2（固體）+C（固體）→TiCl4+CO2（氣體）第二步是在700-800攝氏度的耐高溫鋼外殼中用液態(tài)鈉（Na）加熱前一步驟中的。在這個(gè)稱(chēng)為“還原”的過(guò)程中，通過(guò)鈉還原，得到99.9％純金屬鈦以及鹽（NaCl）