的附著(zhù)力–可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落（PVD鍍膜持有很高附著(zhù)力和耐久力）。其它的技術(shù)，包括電鍍，噴涂都不能與其相比。鍍層薄，但具有高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。高硬度，低摩擦系數。不會(huì )改變基材本身的外觀(guān)，比如鏡面，拉砂紋，蝕刻紋，花紋，CD紋等不會(huì )覆蓋?？梢晕g刻出任何能夠想象出的設計圖案。

b.左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。pvd真空鍍膜，離子鍍膜膜層的均與性主要包括成分均勻、組織結構均勻和膜厚均勻，終保證膜層各種性能均勻。材料的性能由其誠分與組織結構所決定，膜層必須獲得所設計的膜系成分和組織結構均勻一致。薄膜是二維材料，膜的厚度是重要的材料技術(shù)指標。比如薄膜的干涉顯色，耐腐蝕性和耐磨性都與膜厚密切相關(guān)，膜厚均勻保證薄膜相關(guān)的性能均勻。

第二：靶毒的影響因素影響靶中的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過(guò)量就會(huì )導致靶*。反應濺射工藝進(jìn)行過(guò)程中靶表面濺射溝道區域內出現被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長(cháng)的過(guò)程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應氣體量增加，化合物生成率增加。如果反應氣體量增加過(guò)度，化合物覆蓋面積增加，如果不能及時(shí)調整反應氣體流量，化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制，濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋，當濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候，靶完全*，在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應。