還需注意一點(diǎn)就是產(chǎn)品底材本身不要有銹點(diǎn)，如果有銹點(diǎn)那么鍍鈦之后使用一段時(shí)間，很容易出現生銹或者鍍鈦層脫落的現象。首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長(cháng)的吸收，而對另一種波長(cháng)的透射的濾。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。

極限真空度：（單位：P：在規定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩的低壓強。一：靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過(guò)反應濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學(xué)反應無(wú)法繼續進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導，所以，化學(xué)反應必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進(jìn)行。

真空鍍膜技術(shù)是一項新興的技術(shù)，國際上直到60年代才開(kāi)始將CVD(化學(xué)氣相鍍膜)技術(shù)應用到硬質(zhì)合金工具中。因為這種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000oC)下進(jìn)行，且涂層類(lèi)型單一，局限性很大，所以在開(kāi)發(fā)初期還有待改進(jìn)。離子鍍膜的基本原理：在真空條件下，采用一定的等離子體離子化技術(shù)，使鍍層原子部分離子化，同時(shí)產(chǎn)生大量高能中性原子，并在鍍層表面施加負偏壓。因此，在深度負偏壓作用下，離子沉積在基體表面形成薄膜。