PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理氣相沉積）的縮寫(xiě)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜通常稱(chēng)謂：金屬表面處理，鍍膜，鍍鈦，真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工，真空鍍膜加工，表面處理等.

3．在用電子鍍膜時(shí)，應在鐘罩外圍上鋁板。觀(guān)察窗的玻璃用鉛玻璃，觀(guān)察時(shí)應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線(xiàn)侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。5．易有毒物品要妥善保管，以防失*中*。6．酸洗夾具應在通風(fēng)裝置內進(jìn)行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應加蓋。

離子鍍膜膜層的成分來(lái)源于鍍料，或者說(shuō)來(lái)源于蒸發(fā)源和濺射靶的材料以及反應氣體。這些沉積物的物種及其比例，在沉積過(guò)程要穩定供給。離子鍍膜膜層的組織結構除了決定于沉積物料的成分外，還取決于沉積粒子的能量、粒子入射角度和基體溫度等，在沉積過(guò)程中要求保持一致。離子鍍膜膜層的厚度取決沉積物的總量，當然以膜致密度相同為前提。