鍍鈦工藝處理溫度可控制在150～500℃以下，因此鍍鈦工藝可用于多種材質(zhì)基體的涂層，不僅具有多姿多彩的裝飾效果，更重要的是采用PVD技術(shù)可使涂層具有優(yōu)異的理化特性，大幅度強化基體表面諸如硬度、摩擦系數等物理特性指標。離子真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)和用途：鈦金真空離子鍍鈦應用的就是PVD技術(shù)。金屬在特定環(huán)境下(壓力，溫度，電磁場(chǎng)等)與各種氣體(氣，氮氣，氧氣及氣等)產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過(guò)加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。該鍍鈦膜層細密均勻，結合力強，硬度高，具有良好的導電性和自潤滑性能，同時(shí)色澤豐富多樣，因此真空鍍鈦不僅是提高材料使用性能的有力手段，在裝飾上同樣是提升檔次，提高附加值的佳選擇。

離子鍍，電鍍混合廢水生化方法是高，新的生物技術(shù)，也就是熱鍍鋅行業(yè)清潔生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)，經(jīng)營(yíng)，操作管理和金屬回收，水質(zhì)等，均優(yōu)于傳統的化學(xué)沉淀法，離子交換法和電解過(guò)程。在國內和國外的微生物安全性評價(jià)方法應用到對環(huán)境的保護不報。真空鍍膜離子鍍是真空蒸發(fā)和濺射陰極技術(shù)的組合。未電離的中性原子(約95%的蒸發(fā)材料)也沉積在襯底或真空腔室的壁表面。場(chǎng)對在蒸汽分子(離子能量約幾百千電子伏特)和離子濺射的基板清洗效果，使薄膜的粘合強度的加速是大大增加了。蒸發(fā)后的材料的分子的電子碰撞電離離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。

PVD（PhysicalVaporDepsition）即物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的表面處理技術(shù)。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基底上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點(diǎn)，特別具有膜層附著(zhù)力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等特點(diǎn)。