PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理氣相沉積）的縮寫(xiě)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜通常稱(chēng)謂：金屬表面處理，鍍膜，鍍鈦，真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工，真空鍍膜加工，表面處理等.

鍍鈦的基本條件：熱處理回火溫度：SLD﹑SKD﹑SKH，鎢剛等各種經(jīng)熱處理后的鋼材，必須高溫回火，回火處理，溫度好為500℃以上.工作表面不可有銹斑﹑黑皮存在，且工件不得有焊補過(guò).若工件為組合件，須將工件拆開(kāi)成單件來(lái)處理.工作面其光澤度要求為0.2~注︰表面光澤度影響其附著(zhù)力﹐光澤度越好其附著(zhù)力越強﹐模具的使用壽命越長(cháng).

1．在機床運轉正常情況下，開(kāi)動(dòng)機床時(shí)，必須先開(kāi)水管，工作中應隨時(shí)注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應特別注意高壓電線(xiàn)接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。3．在用電子鍍膜時(shí)，應在鐘罩外圍上鋁板。觀(guān)察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀(guān)察時(shí)應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線(xiàn)侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。