鍍鈦工藝處理溫度可控制在150～500℃以下，因此鍍鈦工藝可用于多種材質(zhì)基體的涂層，不僅具有多姿多彩的裝飾效果，更重要的是采用PVD技術(shù)可使涂層具有優(yōu)異的理化特性，大幅度強化基體表面諸如硬度、摩擦系數等物理特性指標。離子真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)和用途：鈦金真空離子鍍鈦應用的就是PVD技術(shù)。金屬在特定環(huán)境下(壓力，溫度，電磁場(chǎng)等)與各種氣體(氣，氮氣，氧氣及氣等)產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過(guò)加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。該鍍鈦膜層細密均勻，結合力強，硬度高，具有良好的導電性和自潤滑性能，同時(shí)色澤豐富多樣，因此真空鍍鈦不僅是提高材料使用性能的有力手段，在裝飾上同樣是提升檔次，提高附加值的佳選擇。

常見(jiàn)的間接法測量有：稱(chēng)量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測量的原理可分為三類(lèi)：稱(chēng)量法、電學(xué)法、光學(xué)法。常見(jiàn)的稱(chēng)量法有：天平法、石英法、原子數測定法；常見(jiàn)的電學(xué)法有：電阻法、電容法、渦流法；常見(jiàn)的光學(xué)方法有：等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。下面簡(jiǎn)單介紹三種：干涉顯微鏡法

第三：靶中現象正離子堆積：靶毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧，使陰極濺射無(wú)法進(jìn)行下去。陽(yáng)極消失：靶*時(shí)，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽(yáng)極的電子無(wú)法進(jìn)入陽(yáng)極，形成陽(yáng)極消失現象。真空鍍膜設備操作程序具體操作時(shí)請參照該設備說(shuō)明書(shū)和真空鍍膜機上儀表盤(pán)指針顯示及各旋鈕下的標注說(shuō)明。