ZrN青黃2400±2001～40.5～0.7650±50CrN銀灰2000±2001～100.5～0.7600±50TiAlN褐-黑2700±4001～40.5～0.7800±50DLC黑色1000～80001～4<0.2<500活塞環(huán)所選用的TiN、CrN（銀灰）、ZrN（青黃色）、TiAlN（從褐色到黒色可調）等是使用物理氣相堆積(PVD)工藝在合金鋼活塞環(huán)上構成的數微米厚的硬質(zhì)薄膜。這種硬質(zhì)薄膜的耐磨性?xún)?yōu)于一般的鍍鉻，因而滑動(dòng)面的滑潤性得到堅持，然后也可望取得減摩作用。類(lèi)金剛石膜（DLC）已在發(fā)動(dòng)機活塞環(huán)上作過(guò)使用測驗，與CrN比較，在保證平等耐磨性的同時(shí)，有效地降低計算機全程監控的十二弧源離子鍍膜機沖突，并將處理費用控制在平等水平，然后進(jìn)步了生產(chǎn)率。從TiN、CrN之類(lèi)的PVD硬質(zhì)薄膜向在機油中有杰出潤滑性的、超硬和超低沖突的類(lèi)金剛石膜過(guò)渡，是往后減摩外表處理技術(shù)的發(fā)展方向。

PVD燈具的鋁涂層真空鍍膜。因為是金屬薄膜，DC磁控濺射當然好。速度快。中頻適合鍍復合膜。如果選擇離子源，霍爾離子源就足夠了。但是要注意燈具的大小。一般霍爾離子源為圓形，離子源覆蓋面積有限。你必須用離子束覆蓋所有工件。如果普通霍爾離子源太小，可以考慮陽(yáng)極層離子源。離子源難以發(fā)光的一個(gè)原因是磁場(chǎng)太弱，無(wú)法激發(fā)等離子體。雖然離子源種類(lèi)很多，但基本上是先產(chǎn)生等離子體，然后從等離子體中提取氣體離子，加速成離子束，以便后期注入電子，根據需要中和離子流。

濺射鍍膜的基本原理：充(Ar)氣的真空環(huán)境中，當(Ar)原子被電離，形成離子(Ar)時(shí)，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊用鍍料制成的陰極靶，靶將濺射出來(lái)并沉積在工件表面。濺射膜中的入射離子，一般是通過(guò)輝光放電獲得的，在l0-2Pa~10Pa范圍內，因此濺射出的粒子在飛向基體時(shí)，容易與空氣中的氣體分子發(fā)生碰撞，使其運動(dòng)方向隨機，沉積的薄膜容易均勻。