ZrN青黃2400±2001～40.5～0.7650±50CrN銀灰2000±2001～100.5～0.7600±50TiAlN褐-黑2700±4001～40.5～0.7800±50DLC黑色1000～80001～4<0.2<500活塞環(huán)所選用的TiN、CrN（銀灰）、ZrN（青黃色）、TiAlN（從褐色到黒色可調）等是使用物理氣相堆積(PVD)工藝在合金鋼活塞環(huán)上構成的數微米厚的硬質(zhì)薄膜。這種硬質(zhì)薄膜的耐磨性?xún)?yōu)于一般的鍍鉻，因而滑動(dòng)面的滑潤性得到堅持，然后也可望取得減摩作用。類(lèi)金剛石膜（DLC）已在發(fā)動(dòng)機活塞環(huán)上作過(guò)使用測驗，與CrN比較，在保證平等耐磨性的同時(shí)，有效地降低計算機全程監控的十二弧源離子鍍膜機沖突，并將處理費用控制在平等水平，然后進(jìn)步了生產(chǎn)率。從TiN、CrN之類(lèi)的PVD硬質(zhì)薄膜向在機油中有杰出潤滑性的、超硬和超低沖突的類(lèi)金剛石膜過(guò)渡，是往后減摩外表處理技術(shù)的發(fā)展方向。

如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚較大，要求與機體結合牢固，但均勻性要求不高?；魻栯x子源可用。它具有高離子電流和高離子能級。如果涂有光學(xué)薄膜，主要要求離子電流水平集中，離子電流均勻性好。所以使用考夫曼或射頻離子源，有條件可以使用ECR(電子回旋)或ICP(電感耦合)離子源。另外還要考慮耗材，比如鎢絲的霍爾源，在反應氣體中十個(gè)小時(shí)就會(huì )燒壞。而離子源，如ICP離子源，可以在反應氣體中連續工作數百小時(shí)。

離子鍍膜中的離子源介紹雖然離子源的類(lèi)型有很多種，但目的無(wú)非是在線(xiàn)清洗，改善PVD真空鍍膜表面的能量分布，調制增加反應氣體的能量。離子源可以大大提高膜與基體的結合強度，同時(shí)也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蝕性。如果是電鍍工具的耐磨層，厚度一般較大，膜厚均勻性不高?？梢允褂秒x子電流較大、能級較高的離子源，如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。