不銹鋼壓指紋板表面鍍鈦具有的性能，高du硬度、防磨檫、不zhi剝落、、高度防腐，并且不dao受紫外線(xiàn)影響。同時(shí)還兼具以下性能：可塑性：在彎曲90度以上，不易斷裂或脫皮及表面檫傷；耐抗性：硬度系數超過(guò)80RC。耐久性：表面拋光可維持20年以上；經(jīng)濟性：節約（減少）了一般鍍銅（金）板所需清潔磨光的時(shí)間和花費，使用一塊軟布和玻璃清潔劑就可以；抗破壞性：筆跡和圖跡易消除；環(huán)境適應性：防止有害物質(zhì)的。

在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜。在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積(PVD)技術(shù)和有機化學(xué)液相堆積(有機化學(xué)液相堆積)技術(shù)兩類(lèi)。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標準下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結構或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎表層的方式。硬反映膜主要基于物理學(xué)液體的堆積。利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過(guò)程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉移全過(guò)程。物理學(xué)液相堆積技術(shù)具有薄膜/底材結合性好、塑料薄膜均勻高密度均勻、塑料薄膜厚度可控性好、運用目標廣、磁控濺射復蓋面廣、塑料薄膜堆積厚、鋁合金塑料薄膜平穩、可重復性好的優(yōu)點(diǎn)。有機化學(xué)液相堆積技術(shù)是將塑料薄膜的原素蒸汽和原素的化學(xué)物質(zhì)展示在基礎上，根據液相效果和基礎表層的化學(xué)變化，在基礎上制作金屬材料和化學(xué)物質(zhì)塑料薄膜的方式。