離子鍍膜中的離子源介紹雖然離子源的類(lèi)型有很多種，但目的無(wú)非是在線(xiàn)清洗，改善PVD真空鍍膜表面的能量分布，調制增加反應氣體的能量。離子源可以大大提高膜與基體的結合強度，同時(shí)也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蝕性。如果是電鍍工具的耐磨層，厚度一般較大，膜厚均勻性不高?？梢允褂秒x子電流較大、能級較高的離子源，如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積(PVD)技術(shù)和有機化學(xué)液相堆積(有機化學(xué)液相堆積)技術(shù)兩類(lèi)。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標準下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結構或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎表層的方式。硬反映膜主要基于物理學(xué)液體的堆積。利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過(guò)程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉移全過(guò)程。物理學(xué)液相堆積技術(shù)具有薄膜/底材結合性好、塑料薄膜均勻高密度均勻、塑料薄膜厚度可控性好、運用目標廣、磁控濺射復蓋面廣、塑料薄膜堆積厚、鋁合金塑料薄膜平穩、可重復性好的優(yōu)點(diǎn)。有機化學(xué)液相堆積技術(shù)是將塑料薄膜的原素蒸汽和原素的化學(xué)物質(zhì)展示在基礎上，根據液相效果和基礎表層的化學(xué)變化，在基礎上制作金屬材料和化學(xué)物質(zhì)塑料薄膜的方式。

TiCl4（液體）+4Na（液體）→4NaCl（液體）+Ti（固體）Krol工藝l流程雖然Hunter工藝是鈦提取的先驅過(guò)程，但后來(lái)被Kroll工藝取代。它是由WilliamKroll在1940年第二次世大戰期間開(kāi)發(fā)的。該方法的步包括在1000攝氏度的溫度下通過(guò)焦炭還原鈦礦物鈦鐵礦或金紅石。然后將如此形成的混合物置于氯和中。然后通過(guò)分餾過(guò)程除去許多過(guò)量的礦物組分。在階段，TiCl4在耐高溫的鋼外殼中再次被液態(tài)鎂在