等離子清洗方法和結果一個(gè)適當設計的濕法化學(xué)表面清洗方案通常對接下來(lái)的濕法化學(xué)鍍膜或者如電鍍鋅或磷化的處理步驟是足夠的。然而，關(guān)于如前面章節中描述的PVD工藝必須直接用于鋅表面的聯(lián)合方法，必然會(huì )遇到新的需求。例如，熱浸鍍鋅的鋼板表面通常是以一層薄的氧化鋁層為特征的。這樣的氧化層是由于在鋅的電解液中包含0.2%左右的一定量鋁而產(chǎn)生的，由于它們的擴散柵極效應，因此對預期的鋅合金膜設計有一些影響。因此，不僅是表面的殘余雜質(zhì)，而且氧化層也必須盡量去除。由于氧化層的厚度在10nm左右，因而公認的利用二極管輝光放電或者離子刻蝕工藝的具有典型的低電流密度的等離子體清洗是不夠的。為了增強等離子體清洗效果，使用磁控放電原理的濺射刻蝕源和電弧增強輝光放電源已經(jīng)研制成功并在這條試驗型生產(chǎn)線(xiàn)上實(shí)現了。

在完全的PVD方法里面，金屬化鋼板鍍膜是全部利用PVD進(jìn)行的。因此，膜厚在幾μm級別的鍍膜不得不用氣相沉積。在聯(lián)合方法中，鋼基底已經(jīng)以利用傳統的電鍍或者熱浸鍍的鋅膜或鋅合金膜作了準備。利用PVD，薄的附加膜層在膜厚為典型的約為100nm的級別時(shí)是適用的。這樣，膜層的性質(zhì)就可以修改，同時(shí)也可以提供附加的功能性質(zhì)。這種方法提供了把傳統鍍膜工藝的和上面提及的PVD的在鍍膜設計方面的靈活性聯(lián)合起來(lái)的優(yōu)點(diǎn)。

我國作為世界的制作基地，有很多的產(chǎn)品需求外表處理、裝修?，F在選用的辦法有水鍍、噴漆、電泳、陽(yáng)極氧化等。但這些對環(huán)境都形成必定的污染。而真空鍍膜是現在僅有對環(huán)境沒(méi)有任何污染的外表處理方式。多年來(lái)，我公司現已在真空鍍代替傳統水電鍍方面做了很多的研制，在塑料、不銹鋼、鐵及銅材外表的真空鍍膜設備及工藝上，取得了必定的成果，能夠部分代替水電鍍，已有很多設備進(jìn)入市場(chǎng)，實(shí)現市場(chǎng)化的出產(chǎn)，在一些新的工藝上咱們做出進(jìn)一步的研制投入。