怎么樣才能鍍出堅固的鈦膜？

要想鍍出堅固的鈦層，首先要有好的設備。因為在鍍膜過(guò)程中，真空系統必需要工作穩定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過(guò)程中有雜氣摻入，顏色就會(huì )不理想，嚴重的還會(huì )脫鈦。好的設備弧源離化率高，形成的離子密度大，大顆粒少，鍍出的膜層光滑度高，磨擦系數小，堅固不脫落，差的設備離化率低，鍍出來(lái)的膜層粗糙沒(méi)光澤，容易刮花脫落。

我認為它會(huì )深受人們的喜愛(ài)主要是得益于真空鍍鈦在食品接觸方面的安全性。相比水電鍍，真空鍍鈦在食品接觸方面有的優(yōu)勢，而且顏色也是水電鍍的，尤其是在真空鍍鈦后產(chǎn)品顏色所具有的強烈的金屬質(zhì)感。

整個(gè)真空鍍鈦是一個(gè)物理變化過(guò)程，是一種物理沉積現象?？蛇x用的鍍層材質(zhì)也比較廣泛，因而容易符合環(huán)保要求和食品安全的要求。

而水電鍍則是將需要電鍍的產(chǎn)品放入化學(xué)電鍍液中進(jìn)行電鍍。水電鍍一般使用的材質(zhì)為“六價(jià)鉻”和“三價(jià)鉻”，這是非環(huán)保材料。所以化學(xué)電鍍并不適用于食品接觸類(lèi)的產(chǎn)品。

　　PVD是英文Physical Vapor Deition(物理氣相沉積)的縮寫(xiě)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

　　PVD技術(shù)出現于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學(xué)穩定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速具領(lǐng)域的成功應用引起了制造業(yè)的高度重視，人們在開(kāi)發(fā)、高可靠性涂層設備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類(lèi)刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對刀具材料的抗彎強度無(wú)影響;薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質(zhì)合金精密復雜刀具的涂層;PVD工藝對環(huán)境無(wú)不利影響，符合現代綠色制造的發(fā)展方向。當前PVD涂層技術(shù)已普遍應用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車(chē)刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。