不能用PVD涂薄膜的材料在固定或位置膠合，釘扎，壓緊或擰緊在一起的組件，工具或零件。任何含有鋅，錫或鎘和其他低蒸氣壓合金添加劑的合金材料。含鉛合金，易熔合金和大多數具有低熔點(diǎn)的鋁，鋅和鎂合金。適合PVD硬薄膜涂層的表面具有光亮表面的精細研磨表面適合大涂層附著(zhù)力。地面應無(wú)燒，開(kāi)裂和砂輪上釉。由于磨削溫度較低，易切削CBN砂輪可為涂層提供出色的表面。

用于改善腐蝕性質(zhì)的鎂涂層的噴射蒸發(fā)技術(shù)噴射蒸發(fā)技術(shù)是一種PVD工藝，尤其適應于蒸發(fā)低熔點(diǎn)金屬如鋅或鎂等，同時(shí)具有很高的沉積率(達到約10UM/S)。在試驗型生產(chǎn)線(xiàn)上實(shí)現了設備原理如圖8所示。坩堝由高純石墨組成，除了利用一個(gè)在頂蓋上的小噴嘴與分隔的基底室相連外，其余是全部密封的。除了坩堝外，石墨室也能夠被加熱，并提供約95%的蒸汽利用率。碳纖維化合物的大面積加熱器覆蓋著(zhù)坩堝和基底室，并且可以分別單獨控制以確保溫度曲線(xiàn)合乎理想。坩堝容量是按用于4噸卷材計算的?？紤]到該試驗型生產(chǎn)線(xiàn)的基本研究使用，因此沒(méi)有安裝連續蒸發(fā)材料進(jìn)給裝置。加熱系統是完全由溫度控制和穩定的。從而在加熱以后的整個(gè)工藝時(shí)間內得到恒定的鍍膜條件。由于經(jīng)過(guò)優(yōu)化的噴嘴幾何結構設計，使得整個(gè)的帶截面上的膜厚均勻小于等于(正負)10%。鎂的動(dòng)態(tài)沉積率與坩堝溫度的函數關(guān)系已經(jīng)在幾次實(shí)驗運行中測量得到。(圖

本文基本包括兩個(gè)部分。在一部分中，將描述一種利用PVD研制的高度抗腐蝕的鋅合金膜的新型的聯(lián)合方法。在第二部分中，將報道把這種方法成功升級到一條具有鍍膜速率達到60m/min和帶寬為300的連續試驗型生產(chǎn)線(xiàn)的情況。這種基礎工作會(huì )認為是升級到工業(yè)前的一個(gè)中間步驟。發(fā)展中的新型鍍鋅合金鍍膜的聯(lián)合方法PVD為新型鋼帶鍍膜系統的有意義的發(fā)展方法提供了可能。特別是利用電子束蒸發(fā)和熱噴射蒸發(fā)可以獲得定制的幾μm/s的很高的沉積速率。因此，這些工藝對于連續鋼帶鍍膜在理論上是可行的。與傳統鍍膜工藝相比，這種PVD工藝具有關(guān)于所應用的鍍膜材料的高度靈活性和高度的環(huán)境兼容性的優(yōu)點(diǎn)。