PVD鍍鈦優(yōu)點(diǎn)：在模具的使用過(guò)程中，早期失效經(jīng)常出現。失效的因數通常是磨損、腐蝕、融合、粘著(zhù)等。其問(wèn)題不單是拖延生產(chǎn)周期，也大大增加了生產(chǎn)成本，進(jìn)而影響企業(yè)競爭力。為此，業(yè)界陸續推出不同的解決方案，而鍍鈦表面處理技術(shù)是倍受青睞的方案，能***有效的解決上述難題。PVD涂層技術(shù)可以廣泛應用于各類(lèi)磨損、咬合、腐蝕、粘著(zhù)、融合等而引起失效的工具、模具、機械零件、等。其中，因磨損引起的失效的產(chǎn)品（如：沖裁、冷鐓、粉末成型等）涂層后可提高壽命5-8倍以上；因咬合引起產(chǎn)品或模具的拉傷問(wèn)題（如：引伸模、拉伸模、翻邊模等），涂層后可以從根本上予以解決。

PVD (物理) ：PVD(Physical Vapor Deition)，指利用物理過(guò)程實(shí)現物質(zhì)轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過(guò)程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

　　離子束DLC：碳qin氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場(chǎng)的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過(guò)調整加在等離子體上的電壓來(lái)控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)在于可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個(gè)埃，并可將工藝過(guò)程中的顆料污染所帶來(lái)的缺陷降至。