真空鍍鈦的工作原理： 真空鍍鈦是指在真空的環(huán)境下，采用弧光放電，把陰極鈦靶作為蒸發(fā)源，通過(guò)鈦靶與陽(yáng)極機體之間的弧光放電，使鈦靶材蒸發(fā)并形成離子體，產(chǎn)生的離子體高速向產(chǎn)品上運動(dòng)，在產(chǎn)品表面進(jìn)行沉積，形成了鈦膜層?；?a target="_blank" href="/">鍍鈦加工的食品安全性，它不僅在蛋糕模及各類(lèi)需要食品接觸的產(chǎn)品上有廣泛的應用，如餐廚具等等。而且將它應用在刀具上，還使刀具更美觀(guān)而且持久鋒利。近年來(lái)憑借著(zhù)鍍鈦加工安全衛生等優(yōu)點(diǎn)，餐廚具鍍鈦的數量也越來(lái)越多。所以我們有理由相信，鍍鈦加工在食品接觸類(lèi)產(chǎn)品會(huì )有一個(gè)非常光明的前景。

　　PVD是英文Physical Vapor Deition(物理氣相沉積)的縮寫(xiě)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

　　PVD技術(shù)出現于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學(xué)穩定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速具領(lǐng)域的成功應用引起了制造業(yè)的高度重視，人們在開(kāi)發(fā)、高可靠性涂層設備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類(lèi)刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對刀具材料的抗彎強度無(wú)影響;薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質(zhì)合金精密復雜刀具的涂層;PVD工藝對環(huán)境無(wú)不利影響，符合現代綠色制造的發(fā)展方向。當前PVD涂層技術(shù)已普遍應用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車(chē)刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

卷繞式鍍膜機30年來(lái)有了較大的發(fā)展，鍍膜產(chǎn)品廣泛用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更大，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結構。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較大的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的大量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結構必須配置較大的排氣系統才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機組，使設備成本降低，并節約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。