不能用PVD涂薄膜的材料在固定或位置膠合，釘扎，壓緊或擰緊在一起的組件，工具或零件。任何含有鋅，錫或鎘和其他低蒸氣壓合金添加劑的合金材料。含鉛合金，易熔合金和大多數具有低熔點(diǎn)的鋁，鋅和鎂合金。適合PVD硬薄膜涂層的表面具有光亮表面的精細研磨表面適合大涂層附著(zhù)力。地面應無(wú)燒，開(kāi)裂和砂輪上釉。由于磨削溫度較低，易切削CBN砂輪可為涂層提供出色的表面。

電弧增強輝光放電刻蝕這個(gè)模塊的設計原理和濺射刻蝕模塊的設計原理相似(圖8。取代在基底背面的磁控系統的是與空心陽(yáng)極底部結合的電弧蒸發(fā)器，電板蒸發(fā)器利用擋板與基底隔開(kāi)。在基底附近的附加電極收集來(lái)自擋板后面的電弧等離子體的電子。這些電子在基底附近產(chǎn)生一個(gè)強且寬的等離子體。等離子體的密度可以輕易地利用蒸發(fā)器的電流和附加電極來(lái)控制。在操作中，與在反轉磁控濺射情況下相同的直流或中頻電源可以用于提供空心陽(yáng)極的偏壓。在初步的試驗中，已經(jīng)發(fā)現對于鋼帶的刻蝕率在12nm/s的級別內，并且僅使用了濺射刻蝕模塊所需偏壓電源的一半。

別的還有裝修性鍍鈦，不如街頭上幾塊錢(qián)就能買(mǎi)到的類(lèi)似黃金戒指，一般都是鍍鈦處理里的.主要是色黃，美觀(guān)、避免物件外表氧化、銹蝕等。鍍鈦常用的工藝鍍鈦工藝有真空鍍膜和噴涂工藝等。真空鍍膜包含磁控濺射法，電弧離子鍍法等，如果在鍍膜過(guò)程中通入氮氣能夠形成氮化鈦，鍍層色黃色，否則白色。該辦法鍍層薄，一般在15個(gè)微米左右，鍍層亮光不需要后續加工。