反轉磁控濺射刻蝕在一般的磁控放電設備中，接地鋼帶作為陰極(圖6。在帶材將要鍍膜的一面布置一個(gè)空心陽(yáng)極，在基底背面布置一個(gè)磁場(chǎng)系統。這種設備在帶材表面產(chǎn)生強度約為25mT的磁場(chǎng)。磁控放電直接在金屬化基底表面點(diǎn)火。利用離子沖擊獲得的刻蝕率可以和從磁控源獲得的濺射率相比。為了確保穩定的運行，和用于磁控技術(shù)中相似的中頻電源用于濺射刻蝕工作站。電流密度可以達到約10mA/cm^2。在鋼帶處理的特殊情況下，需要考慮磁場(chǎng)為對帶材運行的影響和鋼帶附近的磁場(chǎng)的屏蔽。穩定的鋼帶通過(guò)量利用輥子對帶的引導來(lái)獲得。通過(guò)利用由稀土磁體組成的磁場(chǎng)系統，可以在厚度為0.9的鋼帶表面保持穩定的磁控放電?？梢杂^(guān)察到對鋼帶的刻蝕率達到15～20nm/s。

等離子清洗方法和結果一個(gè)適當設計的濕法化學(xué)表面清洗方案通常對接下來(lái)的濕法化學(xué)鍍膜或者如電鍍鋅或磷化的處理步驟是足夠的。然而，關(guān)于如前面章節中描述的PVD工藝必須直接用于鋅表面的聯(lián)合方法，必然會(huì )遇到新的需求。例如，熱浸鍍鋅的鋼板表面通常是以一層薄的氧化鋁層為特征的。這樣的氧化層是由于在鋅的電解液中包含0.2%左右的一定量鋁而產(chǎn)生的，由于它們的擴散柵極效應，因此對預期的鋅合金膜設計有一些影響。因此，不僅是表面的殘余雜質(zhì)，而且氧化層也必須盡量去除。由于氧化層的厚度在10nm左右，因而公認的利用二極管輝光放電或者離子刻蝕工藝的具有典型的低電流密度的等離子體清洗是不夠的。為了增強等離子體清洗效果，使用磁控放電原理的濺射刻蝕源和電弧增強輝光放電源已經(jīng)研制成功并在這條試驗型生產(chǎn)線(xiàn)上實(shí)現了。

從沖壓模具制造的整個(gè)過(guò)程來(lái)看，模具設計人員需了解沖壓工藝，需要豐富的機械結構和模具設計經(jīng)驗，以預防生產(chǎn)時(shí)問(wèn)題的發(fā)生；而模具制造則重在按圖生產(chǎn)并提供質(zhì)量可靠的模具零件；下一個(gè)重要環(huán)節就是模具組裝和模具維修工作了，以我的經(jīng)驗看，模具設計需要經(jīng)驗和預防意識，而模具的維修則更需要智慧。要做好模具的維修工作也是不容易的，就像個(gè)醫者一樣，每一項都要注意，按步驟檢修。模具維修工程師也是一樣，不同點(diǎn)在于模具不是人，無(wú)法告訴你病情，而是需要你去檢查、測量、分析甚至感知，從這一點(diǎn)看，做一個(gè)優(yōu)的模具維修工程師，比當個(gè)醫生更難。我們通過(guò)人的病情檢查的步驟來(lái)說(shuō)明一下：