反轉磁控濺射刻蝕在一般的磁控放電設備中，接地鋼帶作為陰極(圖6。在帶材將要鍍膜的一面布置一個(gè)空心陽(yáng)極，在基底背面布置一個(gè)磁場(chǎng)系統。這種設備在帶材表面產(chǎn)生強度約為25mT的磁場(chǎng)。磁控放電直接在金屬化基底表面點(diǎn)火。利用離子沖擊獲得的刻蝕率可以和從磁控源獲得的濺射率相比。為了確保穩定的運行，和用于磁控技術(shù)中相似的中頻電源用于濺射刻蝕工作站。電流密度可以達到約10mA/cm^2。在鋼帶處理的特殊情況下，需要考慮磁場(chǎng)為對帶材運行的影響和鋼帶附近的磁場(chǎng)的屏蔽。穩定的鋼帶通過(guò)量利用輥子對帶的引導來(lái)獲得。通過(guò)利用由稀土磁體組成的磁場(chǎng)系統，可以在厚度為0.9的鋼帶表面保持穩定的磁控放電?？梢杂^(guān)察到對鋼帶的刻蝕率達到15～20nm/s。

在真空區段，實(shí)現了兩種不同的PVD工藝：來(lái)自完全密封的輻射加熱石黑坩堝的用于低熔點(diǎn)材料如鋅或鎂等的調整蒸發(fā)的JET-PVD鍍膜。用兩個(gè)100KW電子從水冷銅坩堝中調整蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料如鐵、鎳和鈦以及金屬化合物、無(wú)機化合物(如二氧化硅)等的EB-PVD鍍膜。運行的結果從已經(jīng)得到廣泛試驗的JET-PVD和等離子清洗工藝獲得。在本文的余下部分將相當詳細在描述這些結果，包括實(shí)際工藝試驗程序的結果。

別的還有裝修性鍍鈦，不如街頭上幾塊錢(qián)就能買(mǎi)到的類(lèi)似黃金戒指，一般都是鍍鈦處理里的.主要是色黃，美觀(guān)、避免物件外表氧化、銹蝕等。鍍鈦常用的工藝鍍鈦工藝有真空鍍膜和噴涂工藝等。真空鍍膜包含磁控濺射法，電弧離子鍍法等，如果在鍍膜過(guò)程中通入氮氣能夠形成氮化鈦，鍍層色黃色，否則白色。該辦法鍍層薄，一般在15個(gè)微米左右，鍍層亮光不需要后續加工。