等離子清洗方法和結果一個(gè)適當設計的濕法化學(xué)表面清洗方案通常對接下來(lái)的濕法化學(xué)鍍膜或者如電鍍鋅或磷化的處理步驟是足夠的。然而，關(guān)于如前面章節中描述的PVD工藝必須直接用于鋅表面的聯(lián)合方法，必然會(huì )遇到新的需求。例如，熱浸鍍鋅的鋼板表面通常是以一層薄的氧化鋁層為特征的。這樣的氧化層是由于在鋅的電解液中包含0.2%左右的一定量鋁而產(chǎn)生的，由于它們的擴散柵極效應，因此對預期的鋅合金膜設計有一些影響。因此，不僅是表面的殘余雜質(zhì)，而且氧化層也必須盡量去除。由于氧化層的厚度在10nm左右，因而公認的利用二極管輝光放電或者離子刻蝕工藝的具有典型的低電流密度的等離子體清洗是不夠的。為了增強等離子體清洗效果，使用磁控放電原理的濺射刻蝕源和電弧增強輝光放電源已經(jīng)研制成功并在這條試驗型生產(chǎn)線(xiàn)上實(shí)現了。

連續鋼帶鍍膜的試驗型生產(chǎn)線(xiàn)為了實(shí)現如前面章節所描述的聯(lián)合工藝的新型鍍膜概念，一條具有模塊式結構包含很多新鍍膜技術(shù)的用于鋼帶連續處理的試驗型加工生產(chǎn)線(xiàn)被幾個(gè)合作者(工業(yè)的和科研的團體)的聯(lián)營(yíng)企業(yè)安裝在DOC。這條試驗型生產(chǎn)線(xiàn)的目的是用于為鋼帶特別研發(fā)新型鍍膜系統和工藝。所有的工藝模塊是按走帶速率達到60M/MIN和帶寬達300MM設計的。這樣就可以獲得有價(jià)值的經(jīng)驗，以便把這些工藝升級到工業(yè)規模。在具有全長(cháng)接近80M的試驗型生產(chǎn)線(xiàn)上實(shí)現和結合的不同的新鍍膜技術(shù)顯示在圖5中。PVD工藝技術(shù)是被凡阿那研究所和夫瑯和費金屬與電子技術(shù)協(xié)會(huì )通過(guò)緊密合作來(lái)研發(fā)和實(shí)現的。

本文基本包括兩個(gè)部分。在一部分中，將描述一種利用PVD研制的高度抗腐蝕的鋅合金膜的新型的聯(lián)合方法。在第二部分中，將報道把這種方法成功升級到一條具有鍍膜速率達到60m/min和帶寬為300的連續試驗型生產(chǎn)線(xiàn)的情況。這種基礎工作會(huì )認為是升級到工業(yè)前的一個(gè)中間步驟。發(fā)展中的新型鍍鋅合金鍍膜的聯(lián)合方法PVD為新型鋼帶鍍膜系統的有意義的發(fā)展方法提供了可能。特別是利用電子束蒸發(fā)和熱噴射蒸發(fā)可以獲得定制的幾μm/s的很高的沉積速率。因此，這些工藝對于連續鋼帶鍍膜在理論上是可行的。與傳統鍍膜工藝相比，這種PVD工藝具有關(guān)于所應用的鍍膜材料的高度靈活性和高度的環(huán)境兼容性的優(yōu)點(diǎn)。