商丘真空鍍鈦-真空鍍鈦報價(jià)-金常來(lái)廠(chǎng)家實(shí)力(多圖)
商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)加工
地址：河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng)：金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn)：1593-9088815
QQ：1304173334
產(chǎn)品詳情 聯(lián)系方式
產(chǎn)品品牌：金常來(lái)
供貨總量：不限
價(jià)格說(shuō)明：議定
包裝說(shuō)明：不限
物流說(shuō)明：貨運及物流
交貨說(shuō)明：按訂單
有效期至：長(cháng)期有效
在靶材和襯底之間加上一個(gè)直流高壓，極板間的氣體（一般為Ar2）電離，高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術(shù)。要保持自持放電，在兩極板間距為數厘米的正常濺射間距下，放電氣壓一般高達10帕，這對濺射效率和薄膜質(zhì)量都是不利的。因此，直流濺射多采用非自持放電，也就是加入熱電子發(fā)射極和輔助陽(yáng)極的四極濺射，可使濺射在10-1～10-2帕的低氣壓下進(jìn)行。
離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著(zhù)電力線(xiàn)方向運動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著(zhù)規定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內的任何地方。
離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著(zhù)電力線(xiàn)方向運動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著(zhù)規定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內的任何地方。
基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.
b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。
c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.
d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.
高經(jīng)理先生
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