PVD是英文Physical VaporDeition（物理氣相沉積）的縮寫(xiě)，是指在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上沉積形成不同顏色和質(zhì)感的薄膜。PVD膜層賦予產(chǎn)品表面金屬質(zhì)感和豐富的顏色，并改善耐磨、耐腐蝕性，延長(cháng)壽命。已經(jīng)廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、建筑五金、模具刀具等產(chǎn)品。

增強型磁控陰極?。宏帢O弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場(chǎng)的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。

　　過(guò)濾陰極?。哼^(guò)濾陰極電弧(FCA )配有的電磁過(guò)濾系統，可將離子源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀(guān)粒子、離子團過(guò)濾干凈，經(jīng)過(guò)磁過(guò)濾后沉積粒子的離化率為，并且可以過(guò)濾掉大顆粒， 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。

產(chǎn)生原因：產(chǎn)品周轉運輸或在爐內生產(chǎn)時(shí)素材受到污染，產(chǎn)品表面有塵點(diǎn)、毛絲等，PVD出爐后灰塵脫落露出底材顏色。

解決方案：縮短產(chǎn)品在爐外停滯時(shí)間及爐內潔凈度管控，減少異物掉落在產(chǎn)品表面。

產(chǎn)生原因：主要原因是產(chǎn)品表面臟污，膜層無(wú)法在產(chǎn)品上沉積或結合力差，在自然或人為的因素下產(chǎn)品表面漏出底材。

解決方案：將產(chǎn)品清洗干凈，避免污染產(chǎn)品，確保表面潔凈度。